एचपीएमसीच्या त्वरित आणि हळू विघटन दरम्यान फरक

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोजच्या वापरामध्येएचपीएमसी, आम्हाला सहसा असे आढळले आहे की ते मुळात दोन प्रकारांमध्ये विभागले गेले आहे: त्वरित आणि हळू विघटन. द्रुत विघटन आणि हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोजचे हळू विघटन यांच्यातील फरक समजून घेऊया.

इन्स्टंट एचपीएमसी म्हणजे उत्पादन प्रक्रियेमध्ये पृष्ठभागाच्या उपचारांसाठी क्रॉस-लिंकिंग एजंटचा वापर करणे, जेणेकरून एचपीएमसी द्रुतगतीने थंड पाण्यात विखुरले जाऊ शकते, परंतु वास्तविक समाधान नाही, एकसमान ढवळत, व्हिस्कोसिटी हळूहळू उदय, म्हणजेच विघटन;

स्लो विद्रव्य एचपीएमसीला हॉट मेल्ट प्रॉडक्ट्स देखील म्हटले जाऊ शकते. जेव्हा थंड पाण्याचा सामना करावा लागतो, तेव्हा ते द्रुतगतीने गरम पाण्यात विखुरले जाऊ शकते. समान रीतीने ढवळून, द्रावणाचे तापमान एका विशिष्ट तापमानात खाली येईल. (आमच्या जेलचे तापमान सुमारे 60 डिग्री सेल्सियस आहे), पारदर्शक आणि चिकट जेल तयार होईपर्यंत चिकटपणा हळूहळू दिसून येईल.

येथे त्वरित समाधान आणि स्लो सोल्यूशनमधील फरक येथे आहे. आपल्याकडे या ज्ञानाबद्दल काही प्रश्न असल्यास आपण आमच्याशी सल्लामसलत देखील करू शकता.

हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज एचपीएमसी सिमेंट हायड्रेशनला विलंब करते

सिमेंटमध्ये हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज जोडणे त्याचे हायड्रेशन कमी करते. मग ते कसे कार्य करते याबद्दल आपल्याला काय माहित आहे? सिमेंट हायड्रेशनला विलंब करण्यासाठी हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोजकडे पाहूया. तत्त्व.

1. आयन मूव्हमेंट डिसऑर्डर गृहीतक

आम्ही गृहित धरले की हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज छिद्र सोल्यूशन्सची चिकटपणा वाढवेल, आयनिक हालचालीच्या दरास अडथळा आणू शकेल आणि सिमेंटच्या हायड्रेशनला उशीर करेल. तथापि, या चाचणीतील कमी व्हिस्कोसिटी सेल्युलोज इथर्समध्ये सिमेंट हायड्रेशनला उशीर करण्याची मजबूत क्षमता होती. म्हणून, ही धारणा अवैध आहे. पोरचेझ इट अल. या कल्पनेवर देखील शंका आहे. खरं तर, आयन स्थलांतर किंवा स्थलांतर करण्याची वेळ खूपच लहान आहे, सिमेंट हायड्रेशनच्या उशीरापेक्षा वेगळी नाही.

2. अल्कधर्मी अधोगती

सिमेंट हायड्रेशनला विलंब करणारे हायड्रॉक्सिल कार्बोक्झिलिक ids सिड तयार करण्यासाठी पॉलिसेकेराइड्स अल्कधर्मी परिस्थितीत सहजपणे कमी होतात. म्हणूनच, हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोजचे विलंबित हायड्रेशन हायड्रॉक्सीकार्बोक्झिलिक ids सिड तयार करण्यासाठी अल्कधर्मी सिमेंट स्लरीजमधील अधोगतीमुळे होऊ शकते. तथापि, पोर्चेझ इट अल. असे आढळले की सेल्युलोज इथर अल्कधर्मी परिस्थितीत खूप स्थिर होते, फक्त किंचित कमी झाले आणि सिमेंट हायड्रेशनच्या विलंबावर अधोगती उत्पादनांचा फारसा परिणाम झाला नाही.

3, शोषण

हायड्रोक्सिप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज ब्लॉक सिमेंट हायड्रेशन असू शकते हे खरे कारण आहे की बरेच सेंद्रिय itive डिटिव्ह सिमेंट कण आणि हायड्रेशन उत्पादनांवर शोषले जातील, सिमेंट कणांचे विघटन आणि हायड्रेशन उत्पादनांचे स्फटिकरुप प्रतिबंधित करतात, जेणेकरून सिमेंटचे हायड्रेशन आणि घनता विलंब होईल. पोरचेझ इट अल. असे आढळले की सेल्युलोज एथर्स सहजपणे कॅल्शियम हायड्रॉक्साईड, सीएसएच जेल आणि कॅल्शियम एल्युमिनेट हायड्रेट सारख्या हायड्रेशन उत्पादनांच्या पृष्ठभागावर शोषून घेतलेले आहेत, परंतु एट्रिंगाइट आणि अनहायड्रेटेड टप्प्यांद्वारे सहजतेने शोषले जात नाहीत. शिवाय, सेल्युलोज इथरच्या बाबतीत, एचईसीची शोषण क्षमता सूज एमसीपेक्षा अधिक मजबूत आहे. एचपीएमसीमधील एचईसी किंवा हायड्रोक्सीप्रॉपिलमधील हायड्रॉक्सीथिलची सामग्री कमी, सोशोशन क्षमता अधिक मजबूत: हायड्रेशन उत्पादनांसाठी, कॅल्शियम हायड्रॉक्साईडची शोषण क्षमता सीएसएचपेक्षा अधिक मजबूत आहे. पुढील विश्लेषण हे देखील दर्शविते की हायड्रेशन उत्पादने आणि सेल्युलोज इथरची सोबती क्षमता सिमेंट हायड्रेशनच्या विलंबशी संबंधित आहे: जितके अधिक सामर्थ्यवान, अधिक स्पष्ट, विलंब अधिक स्पष्ट आहे, परंतु सेल्युलोज इथरचे एट्रिंगाइट शोषण कमकुवत आहे, परंतु त्याची निर्मिती, परंतु यामुळे लक्षणीय विलंब झाला आहे. ट्रायकलिसियम सिलिकेटचे सेल्युलोज इथर आणि त्याच्या हायड्रेशन उत्पादनांमध्ये मजबूत शोषण आहे, हे स्पष्टपणे सिलिकेट फेजच्या हायड्रेशन प्रक्रियेस उशीर करते, एट्रिंगाइटची सोय केलेली रक्कम खूपच कमी आहे, परंतु विलंबित एट्रिंगाइट तयार होण्यामुळे सीए 2 + शिल्लक परिणामी आहे, ते सेल्युलोज एथर आहे. उशीरा सिलिकेट हायड्रेशन चालू राहिले.

हे हायड्रोक्सीप्रॉपिल मिथाइल सेल्युलोज विलंब सिमेंट हायड्रेशन तत्त्व आहेत. आम्हाला आशा आहे की हे ज्ञान प्रत्येकास उत्पादन कसे कार्य करते हे समजण्यास सक्षम करेल आणि त्यास अधिक चांगले वापरेल.